01
配備高亮度、長壽命的肖特基場發射電子槍
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分辨率高，30 kV下優於1 nm的極限分辨率
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三級磁透鏡設計，束流可調範圍大
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*低真空模式，以及高性能的低真空二次電子探測器，可觀察導電性弱或不導電樣品
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無漏磁物鏡設計，可直接觀察磁性樣品
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標配的光學導航模式，中文操作軟件，讓分析工作更輕鬆
描述：SEM4000分析型熱場發射掃描電子顯微鏡是一款分析型熱場發射掃描電子顯微鏡，配備了高亮度、長壽命的肖特基場發射電子槍。三級磁透鏡設計，束流大且連續可調，在EDS、EBSD、WDS等應用上具有明顯優勢。支持低真空模式，可直接觀察導電性弱或不導電樣品。標配的光學導航模式，以及直觀的操作界麵，讓您的分析工作倍感輕鬆。
配備高亮度、長壽命的肖特基場發射電子槍
分辨率高，30 kV下優於1 nm的極限分辨率
三級磁透鏡設計，束流可調範圍大
*低真空模式，以及高性能的低真空二次電子探測器，可觀察導電性弱或不導電樣品
無漏磁物鏡設計，可直接觀察磁性樣品
標配的光學導航模式，中文操作軟件，讓分析工作更輕鬆
PA-玻纖複合材料
加速電壓：10 kV / 放大倍率：×500
二氧化矽微球
加速電壓：10 kV / 放大倍率：×80000
金屬斷口
加速電壓：15 kV / 放大倍率：×5000
金屬微觀組織（鋁銅焊接件）
加速電壓：20 kV / 放大倍率：×10000
水菜花花粉
加速電壓：10 kV / 放大倍率：×50000
鈦酸鍶鋇陶瓷
加速電壓：10 kV / 放大倍率：×10000
鈦合金
加速電壓：10 kV / 放大倍率：×5000
鈦合金
加速電壓：10 kV / 放大倍率：×10000
| 關鍵參數 | 分辨率 | 1 nm @ 30 kV，SE |
| 0.9 nm @ 30 kV, STEM | ||
| 加速電壓 | 200 V ~ 30 kV | |
| 放大倍率 | 1 ~ 1,000,000 x | |
| 電子槍類型 | 肖特基場發射電子槍 | |
| 樣品室 | 真空係統 | 全自動控製 |
| 低真空模式（選配） | 最大180Pa | |
| 攝像頭 | 雙攝像頭（光學導航+樣品倉內監控） | |
| 行程 | X：120 mm | |
| Y：115 mm | ||
| Z：50 mm | ||
| T: -10°~ +90° | ||
| R: 360° | ||
| 探測器和擴展 | 標配 | 側向低角度電子探測器 |
| 選配 | 低真空二次電子探測器 | |
| 背散射電子探測器 | ||
| STEM自動插入式掃描透射探測器 | ||
| 樣品交換倉 | ||
| EDS能譜儀 | ||
| EBSD背散射衍射 | ||
| EBIC電子束感生電流 | ||
| CL陰極熒光 | ||
| 高低溫原位拉伸台 | ||
| 納米機械手 | ||
| 大圖拚接 | ||
| 軌跡球&旋鈕控製板 | ||
| 軟件 | 語言 | 中文 |
| 操作係統 | Windows | |
| 導航 | 光學導航、手勢快捷導航 | |
| 自動功能 | 自動亮度對比度、自動聚焦、自動像散 |
